اصل کار دستگاه پوشش خلاء

دستگاه پوشش خلاء وسیله ای است که لایه های نازک فلزی را بر روی سطح یک بستر قرار می دهد. اصل کار اصلی آن به سه مرحله تقسیم می شود: تمیز کردن، تبخیر و رسوب.
1. تمیز کردن
قبل از رسوب تبخیری، محفظه تبخیر باید تمیز شود. از آنجا که ممکن است اکسیدها، گریس، گرد و غبار و سایر مواد به سطح محفظه تبخیر چسبیده باشند، اینها بر کیفیت فیلم تأثیر می گذارد. تمیز کردن معمولا از روش های شیمیایی یا فیزیکی استفاده می کند.
2. تبخیر
ماده مورد نظر بالاتر از نقطه ذوب خود گرم می شود تا مولکول های گازی تشکیل شود. سپس مولکول های گازی در محفظه خلاء به محفظه تبخیر فرار می کنند. این فرآیند تبخیر نامیده می شود. دما، فشار و سرعت تبخیر بر ترکیب، ساختار و خواص فیلم تأثیر می گذارد.
3. رسوب گذاری
مولکول های گازی مواد در محفظه تبخیر از طریق لوله خلاء وارد محفظه واکنش می شوند، با ماده فعال واکنش می دهند و سپس محصول را روی سطح زیرلایه می گذارند. به این فرآیند رسوب گذاری می گویند. دما، فشار و سرعت رسوب نیز بر کیفیت و عملکرد فیلم تأثیر می گذارد.
2. کاربرد
ماشین آلات پوشش خلاء به طور گسترده ای در علم مواد، اپتیک، الکترونیک و سایر زمینه ها استفاده می شود.
1. علم مواد
دستگاه های پوشش خلاء می توانند فیلم های نازک از فلزات مختلف، آلیاژها، اکسیدها، سیلیکات ها و سایر مواد تهیه کنند و به طور گسترده در پوشش ها، فیلم های نوری، ذخیره سازی نوری، نمایشگرها، ترانزیستورها و سایر زمینه ها استفاده می شوند.
2. اپتیک
دستگاه پوشش خلاء می تواند فیلم های فلزی و آلیاژی با بازتاب بالا و فیلم های نوری با عملکردهای ویژه تهیه کند. این فیلم ها را می توان در پنل های خورشیدی، میکروسکوپ های الکترونی با کارایی بالا، آئروژل ها، حسگرهای UV/IR، فیلترهای نوری و سایر زمینه ها استفاده کرد.
3. الکترونیک
ماشین‌های پوشش خلاء می‌توانند مواد الکترونیکی در مقیاس نانو و دستگاه‌های میکروالکترونیکی را تهیه کنند. این فیلم ها را می توان در نانو ترانزیستورها، حافظه های مغناطیسی، حسگرها و سایر زمینه ها استفاده کرد.
به طور خلاصه، دستگاه پوشش خلاء نه تنها می تواند مواد مختلف لایه نازک را تهیه کند، بلکه در صورت نیاز فیلم های نازک با عملکردهای ویژه را نیز آماده می کند. در آینده، فناوری پوشش خلاء بیشتر مورد استفاده و ترویج قرار خواهد گرفت.